发展高品质晶圆尺寸石墨烯薄膜的批量化制备技术是推动其在电子学、光学和传感器等领域取得关键应用的基础。制备决定未来，发展与材料应用需求相对标的批量制备方法很大程度上决定了新兴材料的发展前景。化学气相沉积（CVD）法作为最具备发展潜力的高质量石墨烯制备方法之一，近年来在晶圆尺寸石墨烯薄膜方面取得了一系列进展，同时也面临着挑战与瓶颈。基于此，苏州大学能源学院孙靖宇教授近期在Small上发表题为“Controllable Synthesis of Wafer-Scale Graphene Films: Challenges, Status, and Perspectives”的综述论文，总结了目前CVD法制备晶圆尺寸石墨烯的最新进展，强调了化学反应动力学与气相流体动力学对石墨烯生长基元步骤与批量化制备的影响，并对晶圆尺寸石墨烯制备领域今后的重点研究方向进行了展望。北京大学2017级博士研究生姜蓓为第一作者；刘忠范院士与孙靖宇教授为通讯作者。

         论文链接：https://doi.org/10.1002/smll.202008017

图1：晶圆尺寸石墨烯薄膜的制备挑战